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[소재공정test(실험) ] 박막工學(공학) - PVD 와 CVD에 관해

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작성일 23-03-07 17:46

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Download : [소재공정실험] 박막공학 - PVD.pptx







[소재공정test(실험) ] 박막工學(공학) - PVD 와 CVD에 관해



2. Source material이 기체상태가 되어 기판의 표면에 충돌.
원리 및 종류 그리고 특징
높은 에너지를 갖는 미립자들에 의한 충돌에 의해 target이라 불리는



1. 증착 하려는 source material을 도가니에 넣고 가열.

다.
순서
부피대비 표면적 비율이 높은 막을 의미하며 ㎚ ~ ㎛ 단위를 지닌다.










레포트 > 공학,기술계열




3. 충돌된 기체상태의 금속원자가 기판에 증착됨.

원리 및 종류 그리고 특징





[소재공정실험] 박막공학 - PVD-8030_01.jpg [소재공정실험] 박막공학 - PVD-8030_02_.jpg [소재공정실험] 박막공학 - PVD-8030_03_.jpg [소재공정실험] 박막공학 - PVD-8030_04_.jpg [소재공정실험] 박막공학 - PVD-8030_05_.jpg
소재공정실험,박막공학,PVD,CVD

설명
물질의 표면으로부터 떨어져 나오는 원자를 증착.

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원리 및 종류 그리고 특징 원리 및 종류 그리고 특징


기체 상태에서 계속 가열하면, 이온핵과 자유전자로 이루어진 입자들의 집합체가 만들어지는데 이를 Plasma라 하며 전기적으로 중성상태를 지닌다. 또한 고체, 액체, 기체와 더불어 제 4의 물질상태 라고도 불리기도 한다.
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